产品描述

日本 Photonic Lattice 光子晶格 ME-210 高速二维椭偏仪，属于 ME 系列晶圆薄膜面分布测量设备，采用 636nm 半导体激光光源，70° 固定入射角，依托自研光子晶体偏振传感技术，无旋转偏振元件，高速扫描获取样品表面膜厚、折射率二维分布云图。支持两种测量模式：广域模式 0.5mm 光斑，适合大面积快速测绘；高精模式光斑低至 5.5μm，可完成微区薄膜检测。最高每分钟 5000 测点，纳米级检测精度，最大支持 8 英寸晶圆样品（可选 300mm），ME-210-T 版本可额外支持透明基板测量。配套 SE-View 专业分析软件，支持膜厚云图、剖面分析、ROI 统计、CSV 导出，可用于半导体、显示基板薄膜工艺开发与批量质检。原装进口，适合薄层光学薄膜、半导体晶圆表面薄膜全域分布检测。

产品规格

• 型号：ME-210（ME-210-T 为透明基板兼容版本）

• 品牌：Photonic-Lattice（光子晶格，日本）

• 机型说明：高速扫描式二维椭偏仪，测量薄膜厚度、折射率面分布

• 光源：636nm 半导体激光器

• 入射角：70°

• 光斑尺寸：广域模式 0.5mm；高精模式 5.5μm

• 测量速度：广域≥900 点 / 分钟；高精模式≥5000 点 / 分钟

• 膜厚重复性：±0.1nm；折射率重复性：±0.001

• 最大样品尺寸：8 英寸晶圆（选配可升级至 12 英寸 Φ300mm）

• 输出参数：薄膜厚度、折射率、二维分布云图

• 配套软件：SE-View，云图成像、剖面分析、ROI 统计、CSV 数据导出

• 整机尺寸：650 × 650 × 1740 mm

• 整机重量：约 120kg

• 供电：AC100～240V（50/60Hz）

• 信号接口：GigE、RS-232C

产品总结

ME-210 是日本光子晶格二维扫描椭偏测量系统，纳米级高精度，兼顾大面积快速测绘与微区精细检测，一次性获取晶圆 / 基板全表面薄膜厚度与折射率分布。无运动偏振部件，测量稳定，相比传统单点椭偏仪，可直观观察膜层不均匀、局部厚度波动，快速定位工艺缺陷。ME-210-T 版本增加透明基板测量能力，广泛用于半导体、显示行业薄膜工艺评估、来料检验与量产品质监控。

应用场景

1. 半导体行业：晶圆上氧化层、钝化层、抗反射膜厚度分布检测

2. 显示面板：取向膜、ITO 透明导电膜、光学薄层均匀性测绘

3. 光学薄膜：纳米级镀膜、单层 / 多层介质膜全域厚度评估

4. 工艺研发：镀膜、刻蚀工艺调试，定位膜厚波动、局部缺陷

5. 来料与成品质检：8 英寸以内晶圆基板抽检，批次间稳定性比对

6. 新材料开发：新型功能薄层折射率与膜厚二维分布表征