产品描述

日本 Photonic Lattice 光子晶格 ME-310 高速二维椭偏仪，ME 系列高端机型，最大支持12 英寸（300mm）晶圆全域扫描。采用 636nm 半导体激光光源，70° 固定入射角，依托自研光子晶体偏振传感技术，无旋转偏振元件，高速高密度测绘，一次性输出膜厚、折射率二维分布云图。支持三档光斑切换：广域 0.5mm、中间模式 55μm、高精模式 5.5μm，兼顾整片晶圆快速 mapping 与局部微区精细检测。纳米级检测灵敏度，可检出小于 1nm 的膜厚波动，适配光刻胶、原生氧化层等超薄薄膜检测。配套 SE-View 专业分析软件，支持膜厚云图、剖面分析、ROI 统计、CSV 导出，可对接工厂自动化系统。原装进口，多用于 12 寸半导体晶圆工艺开发与量产质检。

产品规格

• 型号：ME-310

• 品牌：Photonic-Lattice（光子晶格，日本）

• 机型说明：高速扫描式二维椭偏仪，支持 12 英寸晶圆全域膜厚 mapping

• 光源：636nm 半导体激光器

• 入射角：70°

• 光斑尺寸：广域模式 0.5mm；中间模式 55μm；高精模式 5.5μm

• 膜厚重复性：±0.1nm；折射率重复性：±0.001

• 最大样品尺寸：12 英寸晶圆（Φ300mm）

• 输出参数：薄膜厚度、折射率、二维分布云图

• 配套软件：SE-View，云图成像、剖面分析、ROI 统计、CSV 数据导出

• 机架尺寸（W×D×H）：790 × 900 × 1740 mm

• 整机重量：约 280kg

• 供电：AC100～240V（50/60Hz）

• 信号接口：GigE、RS-232C

产品总结

ME-310 是日本光子晶格面向 12 寸晶圆开发的高密度二维椭偏测量系统，继承 ME 系列无运动偏振部件的稳定特性，实现整片晶圆膜层全域测绘。三档光斑满足从整片快速扫描、局部区域到微小芯片微区检测需求，可捕捉晶圆中心、边缘微小膜厚差异，定位镀膜、刻蚀带来的膜厚不均缺陷。适合半导体前道工艺监控、超薄介质膜、光刻胶膜层均匀性评估，支持工厂自动化产线集成。

应用场景

1. 半导体行业：12 英寸晶圆氧化层、钝化层、光刻胶薄膜全域膜厚分布检测

2. 显示基板：大尺寸基板 ITO 膜、取向膜薄层均匀性测绘

3. 光学薄膜：单层 / 多层介质镀膜，大面积纳米膜层厚度评估

4. 工艺研发：镀膜、刻蚀工艺调试，分析晶圆径向膜厚波动

5. 量产品控：12 寸晶圆来料抽检、批次稳定性比对、不良区域定位

6. 新材料开发：新型功能薄层折射率与膜厚二维分布表征