日本 Photonic Lattice 光子晶格 SE-101 紧凑型单点椭偏仪，SE 系列基础单点薄膜测量机型，采用自研光子晶体偏振传感技术，无旋转偏振元件，测量稳定。测头单元可分离，支持独立模块化集成至产线或实验设备，最高 70fps 高速单点采集，最小采样间隔 0.05 秒，可实时捕捉薄膜厚度随时间动态变化。636nm 半导体激光，70° 固定入射角，光斑约 1mm，纳米级检测精度，可测单层 / 多层薄膜厚度与折射率。配套 SE-View 专业分析软件，支持数据记录、模型拟合、CSV 导出，可选手动 XY 位移台实现多点扫描，原装进口，适合实验室研发、小样测试及设备集成。
型号：SE-101
品牌：Photonic-Lattice（光子晶格，日本）
机型说明：紧凑型单点椭偏仪，可分离测头，支持设备集成
光源：636nm 半导体激光器
入射角：70°
光斑尺寸：约 1mm 正方形
测量速度：最小采样间隔 0.05s（70fps）
膜厚重复性：±0.1nm；折射率重复性：±0.001（硅基底 SiO₂标样）
最大样品：4 英寸基板，可选 XY 手动位移台（行程 ±20mm）
整机尺寸：270 × 337 × 最高 631mm
测头重量：约 5kg
输出参数：薄膜厚度、折射率、椭偏参数
配套软件：SE-View，模型拟合、时序记录、CSV 导出
信号接口：GigE
供电：AC100～240V（50/60Hz）
SE-101 是光子晶格 SE 系列紧凑型单点椭偏仪，区别于 ME 系列面扫 mapping 机型，主打单点高速、低成本、模块化集成。可拆卸测量探头，既可台式实验室使用，也可嵌入试验机、小型产线进行动态薄膜监测，实时追踪膜厚变化。纳米级精度，结构小巧轻便，适合薄膜配方研发、镀膜工艺调试、小样抽检，是膜层光学参数快速评估的经济型设备。
半导体研发：硅片表面氧化层、光刻胶薄膜单点膜厚与折射率检测
光学镀膜：单层 / 多层介质膜、抗反射膜单点光学参数测试
显示行业：取向膜、ITO 导电薄膜小样评估
动态薄膜实验：成膜过程、溶剂挥发过程膜厚时序变化观测
设备集成：搭配试验机、小型涂布台做原位薄膜监测
新材料研发：高分子薄膜、有机薄层光学特性表征
日本Photonic-Lattice光子晶格 高速二维椭偏膜厚分布测量系统 ME-310
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